天门热氧化过程有哪三个持续的阶段？

热氧化过程有哪三个持续的阶段？

 在氧化层中大部分的电荷效应是直接或间接地同热氧化的工艺过程有关的，在800-1250度的温度范围内，用干氧、湿氧或者水汽进行的热氧化过程有三个持续的阶段。

1-首先是环境气氛中的氧进入到已生成的氧化层中，然后氧通过二氧化硅向内部扩散，当它到达Si02-SI界面时就同硅发生反应，形成新的二氧化硅。这样不断发生着氧的进入-扩散-反应过程，使靠近界面的硅不断转化为二氧化硅，氧化层就以一定的速度硅片内部生长。

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